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解析熒光的“發(fā)光密碼”：從原理到測試，卓立漢光熒光光譜儀產品為您提供支持
光致熒光光譜測量是半導體材料特性表征的一個被普遍認可的重要測量手段。MiniPL為模塊化設計、計算機自動控制的高靈敏度、寬帶隙小型PL（光致熒光）光譜儀；MiniPL采用Photon Systems公司自行研發(fā)的深紫外激光器224nm（5.5eV）或248.6nm（5eV）作為激發(fā)光源，配合*的光路設計，采用高靈敏度PMT作為探測器件，并通過儀器內置的門閘積分平均器（Boxcar）進行數據處理，實現(xiàn)微弱脈沖信號的檢測。MiniPL可被用表征半導體材料摻雜水平分析、合成組分分析、帶隙分析等，不僅可用于科研領用，更可用在半導體LED產業(yè)中的品質檢測。
主要規(guī)格特點：
■ 采用5.5（224nm）或5.0 eV（248.6nm）深紫外激光器
■ 室溫PL光譜測量范圍：190~650nm（標準），190~850nm（選配）
■ 高分辨率：0.2nm（@1200g/mm光柵，標配），
0.07nm（@3600g/mm光柵，選配）
■ 門閘積分平均器（Boxcar）進行微弱脈沖信號的檢測
■ 可實現(xiàn)量子效率測量
■ 基于LabView的界面控制
■ 光譜分析軟件可獲得光譜帶寬、峰值波長、峰值副瓣鑒別、光譜數據運算、歸一化等
■ 大可測量50mm直徑樣品，樣品可實現(xiàn)XYZ三維手動調整（標準）
■ 可選配自動樣品掃描裝置，實現(xiàn)Mapping功能
■ 可用于紫外拉曼光譜測量
■ 高度集成化，體積：15 ×18 × 36cm，重量：<8kg
| 型號 | 規(guī)格描述 |
| MiniPL 5.0eV | NeCu激光器（248.6nm）,三維手動調節(jié)樣品臺，單光柵 |
| MiniPL 5.5eV | HeAg激光器（224.0nm） ,三維手動調節(jié)樣品臺，單光柵 |
| 升級選項 | |
| 光電倍增管選項 | 升級為190-850nm |
| 光柵選項 | 增加第二塊光柵（3600g/mm） |
| Mapping功能選項 | 升級為X-Y自動掃描樣品臺 |
| 低溫制冷選項 | 4K，6.5K，10K低溫制冷樣品室，低震動設計，振幅小于5nm （選配低溫選項時不能同時進行Mapping測量） |
AlGaN光致發(fā)光光譜及PL Mapping光譜（含3D圖譜），樣品尺寸：直徑50mm（樣品由客戶提供）
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